GD装置

代表的な装置仕様

○ナノ粒子作製部
高周波誘導加熱;5kw
○膜形成部
ノズル径&本数;φ0.3mm、1本
基材駆動;X70mm x Y70mm x Z40mm θ90度
○AGD機構付属

○ナノ粒子作製部
高周波誘導加熱;30kw
○膜形成部
ノズル径&本数;φ1mm、1本
基材駆動;X300mm x Y150mm x Z30mm θ90度
○高純度Heガスリサイクルシステム付き

 

○ナノ粒子作製部(2式)
抵抗加熱;650℃まで
○膜形成部(グローブ機構付き)
ノズル径&本数;φ0.8mm、2本
基材駆動;50mm x 50mm
○有機ナノ粒子の機能膜形成用

○高周波誘導加熱;10kw
○ノズル径&本数;φ0.8mm、1本
○基材駆動;80mm x 80mm
○アーク加熱系付属

 

○高周波誘導加熱;5kw
○ノズル径;φ0.8mm
○基材駆動;200mm x 50mm
○AGD機構付属

○高周波誘導加熱;20kw、5kw
○基材駆動;100mm x 150mm

 

○高周波誘導加熱;10kw
○ノズル径;φ0.8mm
○基材駆動;100mm x 100mm
○2系統の蒸発源あり