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1.エアロゾル化ガスデポジション(AGD)装置

 セラミックスの常温成膜装置である。微粒子を密閉容器に入れ、ガスを導入し、エアロゾルを作る。巻き上げられた粒子は、ガスと共に搬送管を経て、ノズルより対向する基板へ噴射堆積される。ガス搬送過程において摩擦帯電されたセラミックス粒子の高速噴射により、緻密なナノ粒子構造膜が形成される。

 

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2.ガスデポジション(GD)装置

 ガス中で作製されたナノ粒子はガス搬送され、ノズルから対向する基材へ噴射堆積される。活性なナノ粒子を膜形成に利用するために、低温成膜が可能である。

 

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3.受託試作成膜など

AGDおよびGDなどの試作成膜処理を請けています。

 

4.ナノ粒子関連装置など

4-1.カーボンナノチューブ作製装置

○黒鉛アノード;φ15mm x 240mmL
○電源;DC24V x 300A

4-2.カーボンナノホーン作製機構

○原料黒鉛;φ30mm x 250mm (X20mm x Y20mm)
○移動回転機構;Z200mm θMax.10rpm

 

4-3.メタルフラーレン作製装置1

○原料棒;□15mm x 300mmL
○電源;DC40V x 300A
○転極機構、回収フィルター付き

4-3.メタルフラーレン作製装置2

○原料棒;□20mm x 300mmL
○電源;DC50V x 500A
○転極機構、グローブ機構、冷却面回収付き

 

4-4.ナノ粒子作製装置

○加熱源;Nd:YAGレーザー
○蒸発材(Ni);φ50mm x 3mmt
○分級装置(DMA)(加電圧装置付き)
○基材駆動;X20mm x Y20mm x Z20mm
○ノズル;φ3mm(ファラデーカップ付き)

4-5.真空高温炉

○加熱温度;2000℃
○真空;10-2Pa
○黒鉛通電機構およびその電源付き