nano tech 2017に出展しました
日時:2016年2月15日(水)~17日(金)
場所:東京ビックサイト 東5ホール
【ベンチャーパビリオン、小間番号:5A-03-10】
テーマ名:新規の静電誘導プラズマ成膜装置技術
サブタイトル:セラミックス粉の常温成膜技術、静電誘導プラズマ場のスパッタ膜
(新規エアロゾル化ガスデポジション装置)
-関東経済産業局、戦略的基盤技術高度化支援事業(サポイン)の補助に基づく-
nano tech 2017に出展しました
日時:2016年2月15日(水)~17日(金)
場所:東京ビックサイト 東5ホール
【ベンチャーパビリオン、小間番号:5A-03-10】
テーマ名:新規の静電誘導プラズマ成膜装置技術
サブタイトル:セラミックス粉の常温成膜技術、静電誘導プラズマ場のスパッタ膜
(新規エアロゾル化ガスデポジション装置)
-関東経済産業局、戦略的基盤技術高度化支援事業(サポイン)の補助に基づく-